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好消息!大基金三期将重点支持光刻机和EDA等关键技术突破

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据媒体报道,最新消息,大基金三期将重点支持光刻机和EDA(电子设计自动化)工具等关键领域的技术突破,以应对美国对中国半导体产业的技术限制。以下是关于大基金三期重点投向光刻机和EDA的详细分析:

Signoff利刃出鞘!物理验证Argus工具为大规模数字SoC/泛模拟/3DIC设计保驾护航

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在芯片设计的流片之路充满挑战,物理验证EDA工具无疑是这“最后一公里”关键且不可或缺的利器。它通过设计规则检查、版图与原理图一致性验证等关键流程,为IC设计契合制造需求提供坚实保障。

范式级技术革命!合见工软年度发布多款国产自研EDA与IP解决方案

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2025年6月24日,中国数字EDA/IP龙头企业上海合见工业软件集团有限公司今日在上海召开了“2025合见工软新产品发布会暨技术研讨会”,会上展示了下一代国产EDA技术的重大革新进展,并正式发布了多款国产自主自研EDA及IP产品,助力我国自研EDA和IP产品从国产化替代到国际标杆技术的进阶。


【原创】回应美国断供EDA和IP,中科院发布的“启蒙”系统让美国网友惊呼“又一个市场丢了!”

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5月30日,美国政府为了遏制中国半导体的发展,突然宣布对中国断供EDA和IP ,详见《这次美国EDA断供远比传闻严重!但危中有机!》,近日,中国科学院计算技术研究所处理器芯片全国重点实验室联合软件研究所,宣布推出全球首个基于人工智能技术的处理器芯片软硬件全自动设计系统——“启蒙”。